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[광학조절기술] ASML Netherlands B.V. v. 니콘 간의 특허 분쟁
ASML Netherlands B.V. v. Nikon Corporation
발생일자 2018.09.12 사건번호 3:18-cv-05592 
법원국가 UNITED STATES OF AMERICA
관할법원명 D.C.N.D.California(지방법원)
침해권리 특허
원고명 ASML Netherlands B.V. / ASML US LP / ASML US, LLC ( 네덜란드 / 외국기업 )
피고명 Nikon Corporation / Nikon Research Corporation of America / Nikon Precision Inc. ( 일본 / 외국기업 )
소송유형 침해금지
분쟁내용 [ASML Netherlands B.V. et al v. Nikon Corporation et al] 사건번호 3:18-cv-05592에 따르면 원고 ASML Netherlands B.V. / ASML US LP / ASML US, LLC는 피고 Nikon Corporation / Nikon Research Corporation of America / Nikon Precision Inc.을(를) 상대로 특허 US7295283|US7403264|US9188880을(를) 침해하였다는 이유로 미국 캘리포니아 북부 지방법원에 소를 제기하였다.
분쟁경과 진행중
산업분류 전기전자 > 광학조절기술
계쟁제품 NSR-S631E, NSR-S650D, NSR-S630D, NSR-S622D, NSR-S621D, NSRS620D, NSR-S322F 및 기타 구성 시스템, 이와 유사한 시스템 [NSR-S631E, NSR-S650D, NSR-S630D, NSR-S622D, NSR-S621D, NSRS620D, NSR-S322F, and NSR-S320F lithography systems, and other similarly-configured lithography systems]
지재권번호/명칭 US7295283 Lithographic apparatus and device manufacturing method  
US7403264 Lithographic projection apparatus and a device manufacturing method using such lithographic projection apparatus  
US9188880 Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a heater  
등록일 : 2018-09-21

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